退火爐是一種新型換熱設備。退火爐是在半導體器件制造中使用的一種工藝，其包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能。熱處理是針對不同的效果而設計的。可以加熱晶片以激活摻雜劑，將薄膜轉(zhuǎn)換成薄膜或?qū)⒈∧まD(zhuǎn)換成晶片襯底界面，使致密沉積的薄膜，改變生長的薄膜的狀態(tài)，修復注入的損傷，移動摻雜劑或?qū)诫s劑從一個薄膜轉(zhuǎn)移到另一個薄膜或從薄膜進入晶圓襯底。加熱方式有電加熱、燃油、燃氣、燃煤、熱風循環(huán)。

　　退火爐的用途：

　　退火爐可以集成到其他爐子處理步驟中，例如氧化，或者可以自己處理。退火爐是由專門為加熱半導體晶片而設計的設備完成的。退火爐是節(jié)能型周期式作業(yè)爐，超節(jié)能結構，采用纖維結構，節(jié)電60%。

　　退火爐按熱源分類：

　　退火爐按熱源分類主要有電熱爐、燃煤退火爐、燃油退火爐、天然氣退火爐、煤氣退火爐等，其中以自備煤氣發(fā)生爐所產(chǎn)煤氣退火爐應用zui廣泛。煤氣退火窯減去了燃燒室，直接利用煤氣燒嘴在加熱室噴射燃燒。為了降低能耗，煤氣退火窯往往配有換熱系統(tǒng)，將空氣轉(zhuǎn)換為助燃熱風進行煤氣的助燃。

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